【大成报记者萧宇廷/台中报导】由文化部指导、国立台湾美术馆主办的｢全国美术展｣，迄今已办理11届，是以拔擢美术创作人才、鼓励美术创作为目的，提供全民参与、良性竞争的竞赛评选机制和发表平台，每年均吸引众多艺术创作者，投件竞逐奖项及争取展出机会，可说是台湾美术界的年度盛事，极具指标性的美术竞赛展览。而“110年全国美术展”征选分为11类别，计931件作品角逐、共112件作品脱颖而出，不仅展现创作者独特的艺术语汇，更欣见丰沛的创作能量，汇聚出斐然的艺术成果。
国美馆指出，“110年全国美术展”分为11类别征件，包含水墨、书法、篆刻、胶彩、油画、水彩、版画、雕塑、摄影、新媒体艺术及综合媒材类等，共征得931件作品。经初、复审2阶段严谨评审作业后，共112件作品脱颖而出。
而这次参展作品中，有众多老将及后起新秀外，更含括已连续3届获得同一类别金、银、铜牌奖，获颁｢免审查奖｣殊荣的艺术家，包含书法、篆刻、胶彩、版画及雕塑类等5个类别7位艺术家，提供精彩的作品共襄盛举，别具示范性的意义。
今年的获奖者中，也产出了1位新科｢免审查奖｣得主，将自明年起连续3年受邀参与该展展出。
馆方表示，“110年全国美术展”规划于110年7月17日起至10月10日，在馆内102、103-107展览室及美术街展出，期待透过征件与展览的呈现，鼓励得奖者相互竞技、切磋、并持续精进；也激励参赛者再接再厉，激荡出源源不绝的创作质量与能量，深化该展的多元样貌、同时扩大影响力。

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